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Intel entwickelt unterbrechungsfreien Laser aus Silizium

18.02.2005 | 11:00 Uhr |

Forschern des weltgrößten Chipherstellers Intel ist nach eigenen Angaben ein entscheidender Schritt in der Laser-Technologie auf der Basis von Silizium gelungen.

Damit könnten künftig riesige Datenmengen zwischen Computern per Laserstrahl in Lichtgeschwindigkeit bewegt werden, teilte das Unternehmen am Donnerstag mit. Zudem könnten die heute etwa in der Medizin oder EDV eingesetzten, noch sehr teuren Lasergeräte einmal deutlich billiger produziert werden.

Die Wissenschaftler haben dem Halbleiter-Konzern zufolge erstmals einen unterbrechungsfreien Laserstrahl auf Silizium-Basis produziert. Bislang sei es lediglich möglich gewesen, für kurze Zeit einen Lichtstrahl zu erzeugen, sagte Christian Anderka von Intel. Den Intel-Mitarbeitern sei es nun gelungen, den so genannten Raman- Effekt und die kristalline Struktur des Silizium dazu zu nutzen, die Lichtintensität zu steigern. Raman-Effekt nennt man die Verstärkung des Lichtstrahls durch atomare Schwingungen, wenn dieser in den Chip befördert wird. Bei Silizium ist dieser Effekt mehr als 10 000 Mal stärker als in Glasfasern.

«Wir haben zum ersten Mal demonstriert, dass gewöhnliches Silizium genutzt werden kann, um Geräte zu bauen, die Licht verstärken», sagte Intel-Manager Mario Paniccia. Noch sei man jedoch weit entfernt von kommerziellen Produkten. Die Forschungserfolge seien aber ein Meilenstein auf dem Weg zu kostengünstigeren Geräten für den Massenmarkt. (dpa)

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