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Intel ersetzt Silizium durch Metall für 45-Nanometer-Chipdesign

06.11.2003 | 10:27 Uhr |

Intel-Forschern ist es gelungen, die bislang aus Silizium gefertigten Transistorelektroden durch Bauteile aus Metall zu ersetzen. Als Isolierschicht setzten sie ein als "high-k" bezeichnetes Material ein. Weiter...

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